蔚蓝海岸实验室，紫星光刻机无尘工作室。

今天一早，罗晟接到消息便来到了这里，此时在这间两万多平米的无尘室，几十名工程师和罗晟都穿着工作无尘服在里面，他的手里正拿着一块晶圆流片反复观察欣赏，这尺寸间的艺术正是紫星光刻机的杰作。

站在他身边的一位工程师兴奋使然的道：“光源的转换效率达到了一致，也实现了正确的控制，团队攻克了250瓦光源，客户可以达到每小时155片晶圆吞吐量，而在实验室里，则是可以实现超过300瓦的光源功率，完成最后的测试紫星设备就可以正式出货了。”

全球几家顶尖的芯片制造商一直以来都坚持250瓦的光源功率是达成每小时155片晶圆生产量吞吐的必要条件，而ASML与光源技术供货商Cymer到现在为止还未能实现这一光源功率目标，这家公司两年前被ASML收购，但进展有限，这也是ASML在进来发展不顺的原因，虽说他们已经提前一步搞出了极紫外光刻机了。

罗晟把手里的流片交给旁边的工程师，笑道：“干得不错，我们现在可以有底气说出半导体制造设备最重要的光刻机，我们领先世界了，国内的半导体厂商拿着大把的钞票去求着ASML购买还得看对方心情这种局面，该结束了。”

在场的人听到这话也是倍感振奋，在罗晟的话音刚落后，都止不住内心的激动心情而鼓掌，为国产半导体事业里程碑式的突破而鼓掌，也为自己的事业为自己鼓掌。

两千多个日日夜夜的奋战，不为别的，就为了争一口气。

几万名工程师、研究员、几百家厂商配合，集中火力朝着一个点不断的发起火力冲击，而罗晟在这两千多个地球日照循环里，仅仅在极紫外光刻机设备的研发上就投入超过了1000亿美元，是ASML公司在极紫外光刻机研发投入的五倍之多。

但毫无疑问，这一切都是值得的。

被调来负责紫星光刻机项目的总监李淳胜道：“与业界2012年约25瓦的光源相比较而言，250瓦光源意味着十倍的进步。而ASML的工程师在简报EUV生产经济学时很无奈的表示：250瓦光源功率永远都是明年的目标，哈哈。”

国产半导体一直不如外国人，国内相关从业者的信心在很长一段时间是备受打击的，这一次的突破不但是切切实实的成果突破，也给国产半导体事业的有志之士们莫大的信心。

信念这个东西听起来有点玄，尤其是从事科技工作，但有时候真的很重要，这是士气问题。

紫星光刻机成功先于ASML公司的NXE搞定，虽然对方迟早会解决这个问题，并且也不会等太久了，但这在半导体设备领域绝对是里程碑式的事件。

因为这将打破全球半导体产业链的格局，也必将会推动整个行业进入全新的时代。

罗晟看着在场的技术员们，他能看得出每一个人此刻的内心都很难平静，道：“外面总有人一直说我们技术开发不可能成功，我们的人才不如外国人。确实花了很长的时间，很大的人力、物力和财力的投入，但我们终究还是抵达了终点，走到了外面所有人都认为不可能走到的地方。”

值得一提的是，除了达成光源功率这一里程碑，还有紫星光刻机工具跌对性能的大幅改善，以及产业界在布建紫星光刻机基础建设方面的进展也传来捷报，包括光罩、光罩护膜以及光阻剂等。

队伍里出了一些猪队友，但大部分还是靠谱的。

极紫外光刻技术的突破，意味着摩尔定律的生命再次得到延续，但这不是一家两家厂商能完成的，对于国产集成电路事业而言，外国人根本不带你玩最高端的，只给你玩他们玩剩下的。

所以罗晟打造的国产半导体产业链，只能自己一点一点的搞起来，光是资金就付出了国外竞争者的五倍之多，还需要整个半导体产业链中的材料、设备、知道等各大细分领域齐心协力，就像是团队游戏闯关一般解开一道道技术难题，才能顺利的朝着目的地前进。

这其中的困难不是三言两语就能概括的，期间团队的磨合、与上下游厂商的利益纠纷、技术上的分歧等等都是问题，都要解决。

还有在此过程中像鹏星精密这种骗钱的猪队友，这才是罗晟最气的，骗他的钱无所谓，他有的是钱，但因为这个事情而耽误了开发进度才是最无奈的。

半导体产业与其它行业最大的不同点就是需要各大细分领域一起冲关，你这里掉个链子，其它环节没问题但为了等你不得不放下脚步，在此期间只能干瞪眼，木桶效应在这个领域被放大。

显然，这对于其它环节厂商来说当然是气的骂娘。

“淳胜，你通知各技术部门负责人，十分钟后开个小会。”罗晟交代了一句便离开了紫星光刻机无尘室。

“好的。”李淳胜。

……

不到十分钟过后，蔚蓝海岸实验室内部的一间休息室里，李淳胜通知了各大技术部门的负责人全都放下手头工作来到了这里。

此刻，二十多人三三两两的在休息室里或坐着、或站着、或靠着墙面等等。

罗晟看着每一个人此刻都是容光焕发，喜上眉梢，毕竟今天的确是值得庆祝的时刻，外界还不知道国产集成电路事业已经取得了里程碑式的突破，但他们这些处在第一线的科研人员都已经知道了。

所有人都迫不及待的想要把这个振奋人心的消息向全国汇报。

“各位，这六年来，我在国产半导体事业上仅财务投入就已经超过了3万亿人民币，其中仅光刻设备的研发投入就已经超过了6600多个亿，这都是‘补课费’啊，也是用爱发电，不惜成本，讲道理我已经被掏空了，不会再有第二个3万亿砸进来了。”

罗晟这话引得众人哄笑连连，国产集成电路事业这六年来默默蛰伏砥砺前行，自然是整个团队的功劳，但大家也都知道，能够取得这种里程碑式的突破，离不开罗晟这个人。

没有他的魄力之举，没有他的资金支持和关键技术的支持，以及他强大的凝聚力把整个行业的顶尖人才汇聚在一起，国产集成电路事业想要取得今天的成绩是绝对不可能实现的。

要轮最大的贡献者是谁，肯定是罗晟，对此没有人不服。

罗晟接道：“所以，透过紫星光刻机正式迈入商用化是要提上日程了，不过在场的人都是搞技术的，商业化有别的团队会来搞，我们今天还是要谈技术问题，极紫外光刻机的突破并不意味着国产集成电路事业高端制造就已经完全自主化咯，不怕告诉各位，我们至今为止才实现了40%的目标，还有60%的目标仍然有待攻克。”

此话一出算是把众人从喜悦的氛围中泼了一盆冷水，冷静了下来。

是啊，半导体事业之所以难，就难在这里，前面仿佛有着永远闯不完的关卡，核心环节依然没有实现全部国产自主化。

例如芯片的晶圆提纯技术，目前国产相关厂商还没有达到高精尖的地步，这个环节被日本的信越化工所垄断的，全世界的高端芯片晶圆都用的是信越化工，如果他不给你高纯度晶圆，整个行业依然是趴窝的状态。

换句话说，罗晟这3万亿的投入依然不能实现整个国产高端芯片业的自主化，对方只要卡你个一年半载，钱就可能打水漂了。

还有其他关键环节也是。

国产半导体全产业链自主化道路，任重道远。

罗晟沉声道：“目前业界的消息是，明年抬积电和三星都已经成功将EUV技术导入10纳米并开始量产，在高端芯片制造领域，我们现在已经是处于顶尖梯队了，光源搞定了，但一些技术和材料依然是一个巨大的挑战，就是进入摩尔定律新的篇章之后，9纳米以下的工艺需要降低成本，分辨率更高的极紫外光刻胶技术。”

光刻胶，这就是下一个技术痛点了。

众人也都猜到了罗晟要讲什么了，如今的半导体工艺被推展至10纳米制程，但是实现特定图形变得越来越困难，并且多重曝光也带来了生产成本的上升。

罗晟继续道：“引入极紫外光刻技术后，其所扮演的角色是最新逻辑工艺的关键光刻层，在芯片制造商被引入之前，极紫外是有光刻机、光源、光刻胶和光掩膜组成。”

众人默默的点头，之前极紫外光刻技术的临界多在光源，因为光源的功率不足会影响芯片的生产效率。

而光源问题解决之后，新的挑战即是光刻胶技术的限制了。

……